CVD氣相沉積爐為立式真空感應(yīng)加熱爐,它由爐體、爐蓋、真空系統(tǒng)、電氣系統(tǒng)、加氣系統(tǒng)、和水冷系統(tǒng)等部分組成。爐身采用水冷夾層結(jié)構(gòu)。爐內(nèi)裝有感應(yīng)線圈,發(fā)熱體也是石墨材料制成石墨坩堝。發(fā)熱體外圍是由碳?xì)纸M成的保溫裝置和由剛玉組成的隔熱絕緣裝置。測溫元件采用熱電偶,半自動(dòng)/手動(dòng)控制爐溫,采用智能型溫度表控溫。
CVD氣相沉積爐技術(shù)特征:
CVD氣相沉積爐工作區(qū)尺寸可達(dá)2.5m×2m×4.5m,能滿足大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求;
CVD氣相沉積爐采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫,溫度均勻性好;
CVD氣相沉積爐采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
CVD氣相沉積爐采用多通道沉積氣路,流場均勻,無沉積死角,沉積效果好;
CVD氣相沉積爐能有效處理生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的各種規(guī)格雜質(zhì)。